НИЯУ МИФИ
основан в 1942 году
Контакты
тел.: (495) 324-33-84
(495) 788-56-99 доб. 9900
факс: (495) 324-21-11
e-mail: rector@mephi.ru, info@mephi.ru
сайт: www.mephi.ru
адрес: 115409, г.Москва, Каширское шоссе, д.31
Направления подготовки и специальности
01.03.02 | Прикладная математика и информатика |
03.03.01 | Прикладные математика и физика |
03.03.02 | Физика |
09.03.01 | Информатика и вычислительная техника |
09.03.03 | Прикладная информатика |
09.03.04 | Программная инженерия |
22.03.01 | Материаловедение и технологии материалов |
27.03.03 | Системный анализ и управление |
38.03.01 | Экономика |
41.03.05 | Международные отношения |
01.04.02 | Прикладная математика и информатика |
01.04.04 | Прикладная математика |
03.04.01 | Прикладные математика и физика |
03.04.02 | Физика |
09.04.01 | Информатика и вычислительная техника |
09.04.02 | Информационные системы и технологии |
09.04.03 | Прикладная информатика |
09.04.04 | Программная инженерия |
10.04.01 | Информационная безопасность |
11.04.04 | Электроника и наноэлектроника |
12.04.05 | Лазерная техника и лазерные технологии |
14.04.01 | Ядерная энергетика и теплофизика |
14.04.02 | Ядерные физика и технологии |
— Автоэмиссионный растровый электронный микроскоп с блоком нанолитографии Raith 150 TWO (Raith, Германия)
— Аппарат для нанесения гальванических покрытий PGG 10/1,5 (Heimerle)
— Большой фотомикроскоп отраженного света Neophot 30 (Carl Zeiss)
— Измерительный комплекс полупроводниковых структур B1500A (Agilent Technologies)
— Инфракрасный Фурье спектрометр FTIR-8400S (Shimadzu)
— Комбинированная система нанесения и задубливания резиста Sawatec SM180 НР150 (Sawatec, Швейцария)
— Комбинированный тандемный квадрупольно-времяпролетный масс-спектрометр «QqTOF» (Sciex Applied Biosystems)
— Комплекс измерений S-, X- параметров PNA-X N 5245A в полосе от 0,01 до 50 ГГц (Agilent Technologies)
— Масс-спектрометр X-Series-II с ионизацией в индуктивно-связанной плазме с системой лазерной абляции (New Wave Research)
— Потенциостат-гальваностат P-30S (Elins)
— Растровый электронный микроскоп DSM-960 (Opton) с рентгеновским энерго-дисперсионным анализатором Amptek (США) и сканирующим туннельным микроскопом Un-derSEM
— Рентгеновский дифрактометр Ultima IV (Rigaku)
— Сверхвысоковакуумная система анализа поверхности Multiprobe MXPS (Omicron) с источником осаждения нанокластеров Nanogen-50 и квадрупольным масс-фильтром MesoQ (Mantis Deposition Ltd., Великобритания)
— Сверхвысоковакуумный комплекс (Kratos Analytical Ltd.) с модулем ИЛО для формирования и in situ анализа нанокластеров и сверхтонких слоев на базе электронного спектрометра XSAM-800
— Система безмасковой лазерной литографии DWL 66FS (Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH)
— Система измерения удельного поверхностного сопротивления напылённых слоев RMS-EL-Z (Jandel Engineering)
— Система измерения эффекта Холла HMS-3000 (Ecopia)
— Системы электро-лучевого напыления тонких пленок PVD 250 (Kurt J. Lesker Company)
— Сканирующий зондовый микроскоп «СОЛВЕР НЕКСТ» (НТ-МДТ)
— Спектрометрический комплекс на основе монохроматора МДР-41 (ЛОМО)
— Спектроскопический эллипсометр PHE-102 (Angstrom Advanced Inc.)
— Спектроскопический эллипсометр SE 850 (SENTCH)
— Установка быстрого термического отжига Modular RTP600S (Modular Process Technology Corp.)
— Установка для исследования эффекта Холла HMS-5000 (Ecopia)
— Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems)
— Установка для термического вакуумного напыления РVD-75 (Kurt J. Lesker Company)
— Установка контактной литографии микросхем Suss MJB4 (SUSS MicroTec)
— Установка молекулярно-лучевой эпитаксии GEN-930 (Veeco)
— Установка плазменного травления, плазменной очистки и активации поверхности NANO-UHP (Diener Electronic GmbH)
— Установка плазмохимического реактивно-ионного травления SPTS LPX ICP (SPP Process Technology Systems)
— Установка эпитаксии из газовой фазы Epic CVD (SMI)